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:玻璃瓶生产厂家对离子束抛光法的技术要求

 
发布时间: 2020 . 3 . 13 点击人气 467 次

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离子束抛光( ionic beam polishing)是玻璃工件在传统抛光后,用来进一步提高抛光精度的补充抛光方法。其基本抛光过程是:先在真空(1,33Pa)条件下将惰性气体(氩、氯、氙等)原子使用高频或放电等方法激发形成离子再用20~25kV的电压来加速,然后碰撞到位于1.33×10-8Pa真空度的真空室内的被加工工件表面上,将能量直接传给工件材料表面原子,使其逸出表面而被去除。这种方法可以使工件去除厚度达10~20pm,是典型的用物理碰撞方法进行的抛光技术,一般情况下表面粗糙度可达0.01gm,精度高的达0.6nm。浴法抛光浴法抛光( bnwel-feed polishing)是将工件和抛光盘都浸在抛光液中,所用装置抛光液的深度以设备静止时淹没工件10~15mm为宜。搅拌器是使抛光液处于悬浮状态。不产生沉淀,抛光玻璃时一般使用氧化铁(红粉)、氧化铝等抛光材料,等离子体辅助抛光等离子体辅助抛光(plasma aided polishing)是利用化学反应来去除表面材料而实现抛光的方法,采用特定气体,激发形成活性等离子体,当活性等离子体与工件表面作用,发生化学反应,生成易挥发的混合气体,从而将工件表面材料去除。此外,等离子体与玻璃表面发生作用时,还可以引起局部微区温度瞬间升高,使表面缺陷挥发,从而促进抛光。如石英玻璃,用CF4为抛光气体,激励为等离子体后与石英玻璃表面的反应为:等离子体辅助抛光通常需在1.3×102~13×102Pa真空环境下进行,效率高,表面质量好,表面粗糙度小于0.5nm。

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